第 05 章 · 相机、构图与曝光05.02 曝光控制

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建立呈现目标与验收标准，检查资产尺度、朝向与贴图通道的完整性。
35M · 2 课时
1. 01.01渲染目标20M
2. 01.02资产导入15M
按真实世界数值校准金属度、粗糙度与法线强度，让材质在受控灯光下可信。
55M · 2 课时
1. 02.01贴图接入30M
2. 02.02材质校准25M
搭建主光、补光与轮廓光的层级，用 HDRI 提供可信的环境反射来源。
1H · 2 课时
1. 03.01HDRI 选择30M
2. 03.02补光布置30M
控制高光形状与反射衰减，区分抛光、拉丝与涂层表面的不同响应。
50M · 2 课时
1. 04.01反射控制25M
2. 04.02粗糙度读检25M
确定焦距、景深与主视图角度，用曝光把注意力引导到资产的关键结构。
45M · 2 课时
1. 05.01相机构图25M
2. 05.02曝光控制（正在学习）20M
在固定灯光下迭代材质与色彩管理，建立可复用的 look-dev 基线。
55M · 2 课时
1. 06.01Look Dev 迭代30M
2. 06.02风格统一25M
设置光线追踪、采样与后期效果，在质量与渲染时间之间取得平衡。
45M · 2 课时
1. 07.01渲染设置25M
2. 07.02后期微调20M
输出 beauty render、turntable 与解析视图，整理成可投递的作品集版面。
35M · 2 课时
1. 08.01Beauty Render20M
2. 08.02作品集排版15M

05.02第 05 章 · 相机、构图与曝光20M

曝光控制

占位视频源

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课程进度

0 / 16 课时

课时说明

本课围绕曝光控制推进，建立可复用的 Look Development 流程与参数记录方式。

课程上线后提供

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